SOPT News -- 2004/2/24
ピューリフィケーション研究会（ＳＯＰＴ）会員の皆様へ
既にご案内した通り、ＳＯＰＴ事務局の担当が変更になりました。
これに合わせて、ＳＯＰＴ事務局の代表Ｅメールアドレスを設定いたしました。
今回より、ＳＯＰＴ事務局代表ＥメールアドレスからＳＯＰＴニュースをお送り
いたします。今後ともご指導ご鞭撻の程、宜しくお願い申し上げます。
本日のヘッドライン
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■半導体デバイス製造における清浄度管理の最新動向
■デバイスメーカーでの装置内発塵について
■半導体デバイス製造における清浄度管理の最新動向
●九州半導体イノベーション協議会からの情報
●九州経済産業局からの情報
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以下本文
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■デバイスメーカーでの装置内発塵について
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園田信夫様／藤井淳弘様、「クリーンテクノロジー」Ｖｏｌ．１４，Ｎｏ．１，
ｐｐ．１−４（２００４）の技術論文より
０．１μｍ以下の装置内発塵について解説した。０．１μｍ以下の大きさの微粒
子は、それ以上の微粒子が概ね粒子径比の２．２乗則に従うのに対し、急激な増加
が見られ概ね４．７乗に従うことを指摘。この原因が化学反応を伴う異常粒成長と
関連していることを示唆した。
対策の一つとして装置内の気流巻き上げを抑制するために、ブレークフィルターが
有効であることを述べた。
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■半導体デバイス製造における清浄度管理の最新動向
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園田信夫様、「クリーンテクノロジー」Ｖｏｌ．１３，Ｎｏ．９，ｐｐ．１−６
（２００４）の技術論文より
サブ１００ｎｍ時代の量産化は３００ｍｍウェーハ対応のミニエンを主流とした
クリーン化技術に移行した。このミニエンはウェーハ搬送ボックスのＦＯＵＰ
（Ｆｒｏｎｔ Ｏｐｅｎ Ｕｎｉｆｉｅｄ Ｐｏｄｓ）を中心とした製造ライン
を組むことで、クリーンルーム環境にウェーハを曝露させず高清浄度空間での搬送
加工を実現したことで、８インチ対応のＳＭＩＦよりも超清浄性が維持できると
される。
本文ではこのＦＯＵＰの清浄性や問題点について述べ、筐体の構成材として用いた
成形樹脂の今後の動向についても述べた。
※抜き刷り若干あります。ご希望の方はＳＯＰＴ事務局まで。
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■半導体デバイス製造における清浄度管理の最新動向
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園田信夫様、「第２４回リオン微粒子計測セミナー」の講演より
前述のＦＯＵＰの問題点を中心に解説。脱ガス汚染の目安、クロスコンタミ、
静電気対策などを述べた。
※講演原稿あります。ご希望の方はＳＯＰＴ事務局まで。
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●九州半導体イノベーション協議会からの情報
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平成１５年度第２回デバイス実装研究会の開催について
日程：平成１６年２月２７日（金）
場所：シーホークホテル＆リゾート（福岡市）
主催：（財）福岡県産業・科学技術振興財団
詳細： http://www.si-cluster.jp/newinfo_description.php?no=33
２００４年（第４回） 全九州半導体技術フォーラムの開催について
日程：平成１６年３月８日（月）
場所：ホテルオークラ福岡（福岡市）
主催：九州半導体イノベーション協議会、九州経済産業局、福岡県、他
詳細： http://www.si-cluster.jp/newinfo_description.php?no=32
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●九州経済産業局からの情報
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国際ロボットフェア２００４の開催について
日程：平成１６年２月２５日−２８日
場所：ホテルオークラ福岡（福岡市）、西日本総合展示場新館（北九州市）
主催：経済産業省中小企業庁、九州経済産業局、他
詳細： http://www.robotfair2004.com/index.htm
産学官連携講演会「ナノ材料・セラミックスと新しい産業」
日程：平成１６年３月２日（火）
場所：ホテルステーションプラザ（福岡市）
主催：独立行政法人 産業技術総合研究所（産総研）、九州産学官連携センター
詳細： http://www.kyushu.meti.go.jp/web/16_1_28_gi_kikaku.htm
このメールは、ＳＯＰＴ会員とその紹介者の皆様に配信しております。
今後の配信停止・宛先の変更は、お手数ですがメールアドレスをご明記の上、
このメールにご返信お願い致します。
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詳しくはＳＯＰＴ事務局までご連絡ください。
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