SOPT news -- 2007/7/25
【ピューリフィケーション研究会】
ピューリフィケーション研究会（ＳＯＰＴ）会員の皆様へ
◎ちょっと一言
クリーンルームの４原則には意味がある。４原則は具体的に実施するためのもの
であって眺めるものではない。その可能性を極力排除するものであって、実行す
ることに意味がある。ここで逆説４原則を！！！
原則１はゴミを持ち込まなければ増えない。
原則２はゴミを発生させなければ増えない。
原則３はゴミが製品に付かなければ不良は増えない。
原則４は目の前のゴミは排除しないと全体として減らない。
以上のように単純明快な原則である。すべてこの原則に倣っていれば、方針も明
確だし作業員や外部から見えやすい。でも現実はゴミだらけ！！！
クリーン化技術にも見えない限界があるのかも知れない。
ヘッドライン
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■ 超純水について
■ 変種変量生産時代の局所クリーン化生産方式
第１４回「次世代へ向けての課題」
■ 循環システムにおけるフィルタとポンプ（後編）
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以下本文
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■ 超純水について
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超純水は洗浄工程には不可欠である。超純水といえども極微量の不純物が含まれ
ている。不純物は主に微粒子・イオン状物質・コロイド状物質・溶存ガスであり
、品質や歩留りに大きな影響を与えることがある。比抵抗値は>18.0MΩ・cmと理
論純水(18.24MΩ・cm at 25℃）に近い値であり、先端ラインではTOC(全有機炭
素：Total organic carbon)やコロイダルシリカはppbからpptレベルへと管理基
準値が厳しくなり、金属不純物は一桁pptの管理基準値となっている。
◎この続きはこちら： http://www.puriken.org/news0707_DIW.htm
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■ 変種変量生産時代の局所クリーン化生産方式
第１４回「次世代へ向けての課題」
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(独)産業技術総合研究所 原 史朗
半導体業界では、昨年あたりから現行の最新ウェーハサイズ300mmを、450mmへと
拡大する動きが表に出始めています。しかし、450mm化の装置の総開発費は10兆
円を超えるとも試算され、一体誰がお金を出すの？ということになってしまいま
した。それで、当面は現行300mmウェーハのままで生産性を改善して行こうとい
う、誠に堅実な方向へ向かい始めています。これを業界では、300mm prime計画
などと呼んでいます。現在の生産システムには、すでにこのコラムで解説してき
た搬送系のムダとアナログ歩留まりの問題に加え、大変低い資源利用効率やエネ
ルギー利用効率の課題を抱えています。これらは今まで半導体業界が全く手を付
けてこなかったムダの塊ですから、わずかな努力で、比較的リターンを得やすい
状態になっています。 EPSシステムの今後のあり方は、当面、少なくとも半導体
前工程システムについては、300mmプライム計画と連動して検討されて行くこと
になるでしょう。
◎この続きはこちら： http://www.puriken.org/minien-14.htm
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■ 循環システムにおけるフィルタとポンプ（後編）
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日本インテグリス(株)
65/45nmのテクノロジーノードでは、従来主流であった100nmや50nmのフィルタか
ら、30nmの孔径を持ったフィルタを使用することで、ウェーハ上の50nm未満の粒
子数が大幅に低減されています。つまり、30nm以下の孔径を有しつつ、流量がと
れる（圧力損失が低い）フィルタが重要であることが実証されてきています。
さらに、循環流量を多く得るために、フットプリントが小さく、吐出能力の高い
ポンプが必要となります。
循環システムでは、流量や粒子除去性能のバランスが大切であることが分かりま
したが、それぞれが、高次元で組み合わせられるシステムの可能性がそこにある
ように思います。
◎この本文はこちら：
http://www.puriken.org/news0706_Entegris.htm
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