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SOPT news -- 2007/8/29
【ピューリフィケーション研究会】
ピューリフィケーション研究会（ＳＯＰＴ）会員の皆様へ
◎ちょっと一言
理想的なトランジスタは入力電圧がゼロ以下で電流はゼロで、入力電圧がたとえ
小さくてもある一定の（大きな）電流が急激に流れるものがよい。現実にはこの
特性はなかなかゲットできない。この原因は何だろうか？ いや、難だろう。
①シリコン中の結晶欠陥、②シリコン中に混入した金属汚染が影響します。また
、I-V特性には ①)酸化膜の質を左右するガスの純度、②酸化膜中のイオン性不
純物、③ウェーハ表面・界面の金属・有機物汚染が効きます。具体的に携帯電話
は低電圧化が必要なので、スイッチングの急峻な電圧の立ち上がりと、オフ電流
の低減が不可欠。いや付加決、うむっ負荷欠。クリーン化で深潔（FUKAKETU）が
必要。何かしつこい気がしたので深穴掘った。ごめんなさい。
ヘッドライン
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■ 純水の知識
■ 変種変量生産時代の局所クリーン化生産方式
第１５回「クリーン化産業の今後」
●『テクニカルセッション』のご案内 －－ 日本インテグリス
●『半導体クリーン化技術セミナー』 －－ 半導体産業新聞
●『第１２回 ＳＯＰＴシンポジウム』のお知らせ
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以下本文
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■ 純水の知識
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三菱電機(株)パワーデバイス製作所 園田信夫
半導体製造プロセスに用いられる超純水は不純物が含まないほうが良い。現在、
ウェーハプロセスの先端に用いられている超純水の比抵抗は18ＭΩ-cm以上であ
り、理論純水の比抵抗18.24ＭΩ-cmに近い値となっている。一方、組立工程（主
にダイシング）には1ＭΩ-cmレベルである。この違いは、ウェーハ工程で積んだ
絶縁膜（配線保護膜）の有無に起因している。簡単に超純水への要求項目を説明
する。
①生菌；バクテリアでpseudomonas属（棹菌）が主体である。概ね2～5μｍの細
長い形状を有している。灰化した場合の成分は主に金属でK, Ca, Naなども含む
が、周辺に存在する金属成分の殆どが検出される。従って生菌も死菌も極めて有
害である。数日間で100万個レベルまで増殖し、1世代が数日間の寿命のため次か
ら次に世代交代を繰り返し増加するため注意が必要で、一度汚染されると歩留り
に大きな影響を与える。一般的に、過酸化水素水（3%水溶液はオキシドールと呼
ばれる。分解時に発生期の酸素と水を生成するが、分解後は製品に対する安全性
が高い）で殺菌洗浄する。
②TOC（Total organic carbon；全有機炭素)；炭化水素系物質・有機化合物・バ
クテリアなどHC系（Hydro carbon）の全成分を対象としている。以前から、TOC
と歩留りには経験的に相関があることが知られている。
③イオン状シリカ；コロイダルシリカとも呼ばれSiO2が水にコロイド状に溶解し
たものである。原水に地下水用いた場合に含まれる場合が多く、除去しにくい。
成分がSi酸化物であるため微粒子となった場合、見落とし易い。
④蒸発残留物（TS)；純水中に浮遊したり溶解した成分が蒸発させたときに残っ
たものの重量濃度。Ca, Na, Mg, Siなどの塩類や有機物などが成分である。
⑤溶存酸素（DO；Dissolved oxygen）；純水中に溶け込んだ酸素である。Siの酸
化の促進要因となる。また、極端に溶存酸素が除去されると超音波洗浄の効きが
悪くなる。
⑥金属；金属粒子・酸化物・イオンのいずれの場合もSi基板への不純物拡散源と
なる。また、有形のものはパターン欠陥の直接原因となる。デバイスには極微量
の金属添加（拡散）によってP・N型の半導体を形成するが、添加金属と結合した
り、それ自体がP・N型を形成するため特性に大きな影響を与える。参考までに純
水中に１μｍの金属がウェーハ上に付着したと仮定した場合、10E+10atomsレベ
ル濃度の汚染源となり、先端デバイスに対しては特性不良原因となる。
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■ 変種変量生産時代の局所クリーン化生産方式
第１５回「クリーン化産業の今後」
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(独)産業技術総合研究所 原 史朗
ある時、技術力のある空調メーカの幹部が言いました。「我々には秘密なんてほ
とんどないんですよ。他社の方が我々のことをよく知っているくらいです。大事
なことは、人よりも一歩、いや半歩でも先んじて仕事をすることです。」これは
、空調業界の真実の一面を良く表現した言葉です。特にソリューションビジネス
の特徴がある企業には、ここで言われているような傾向が強く出てくることが多
いと思います。いかにコスト競争力をもちながらも良質な技術を提供し、かつ迅
速な施工ができるか。それには、新しい技術をものにするスピードと、施工時の
フットワークの良さという２つの意味でのスピードが求められます。既存局所ク
リーン化技術を含む局所クリーン化は、ここで言う新しい技術の一つであり、ま
た、施工の簡易性から、空調メーカに機動力を与えることができます。
◎この続きはこちら： http://www.puriken.org/minien-15.htm
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●『テクニカルセッション』のご案内 －－ 日本インテグリス
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開催日時：２００７年９月１９日(水)、１０：３０～１６：１５
開催場所：グランメッセ熊本（益城熊本空港ICから車で約5分）
講座名： 10:30-12:00「ガスフィルタの基礎」
13:00-14:30「ドライプロセスにおける粒子汚染の防止」
14:45-16:15「フィルタによる気体精製技術と応用」
参加費： 無料
主催: 日本インテグリス(株)
詳細： http://www.entegris.com/nihon/TechnicalSession.aspx
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●『半導体クリーン化技術セミナー』 －－ 半導体産業新聞
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今回のセミナーでは、講演のみでなく、技術を可視化してご提示することに重き
を置きました。ご聴講者様にも実際に参加していただく形で、パーティクル・カ
ウンタを会場に持ち込んでの実習・実演、ケース・スタディとテキスト問題・そ
の解説、特別編集したビデオ放映など、従来のセミナーとは違ったアプローチで
『半導体クリーン化技術』の基礎と実践を学び、今後の方向性をご示唆させてい
ただきます。
日時： ２００７年１０月１１日（木）、１１月５日（月）
場所： 東京・御茶ノ水 明神会館（神田明神境内）
講師： 三菱電機(株)パワーデバイス製作所 園田信夫氏
参加費：各回３７，８００円（テキスト、食事・飲み物、消費税込）
主催： 半導体産業新聞
詳細： http://www.semicon-news.co.jp/forum/htm/g86ev07_t-j.htm
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●『第１２回 ＳＯＰＴシンポジウム』のお知らせ
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開催日時：平成１９年１１月２２日(木)、１０：００－１７：００
開催場所：A.R.Kビル（博多駅筑紫口より徒歩約5分）
定員： ６０名
参加費： 会員１０，０００円（非会員１３，０００円）
詳細： 別途ご案内します
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