SOPT news -- 2007/9/27
【ピューリフィケーション研究会】
ピューリフィケーション研究会（ＳＯＰＴ）会員の皆様へ
◎ちょっと一言
久し振りに台湾に行った。昔、新竹工業園区にて、300mm対応のFOUPの立上げの
ほか、超純水・ガス・バクテリアなど振り返れば懐かしい思い出がある。今回は
初めて新幹線に乗って台中に行った。相変わらず街は台湾っぽい匂いが漂う。
組立工場を見た。必ずしも先端ではないけれど、古いながらも工夫がなされてい
る。でも、不思議、何故かJapanese方式と全く一緒。違うのは漢字だけである。
日本企業が指導して立ち上げたラインであることはすぐに分かった。でも、みん
なまじめに働いているのに何故か違和感があった。それは、クリーン化や静電気
対策がおおらかに実施されていることである。日本企業がやりすぎなのか、台湾
が普通のレベルなのか全くプーミンパイ（不明白）思わず苦笑い！！でも、管理
がいまさん、いまに、いまいち。
近いうちに、気合入れに行かないといけない羽目になった。
ヘッドライン
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■ 静電気力の話
■ 変種変量生産時代の局所クリーン化生産方式
最終回「ミニマルマニュファクチャリング」
●『第１２回 ＳＯＰＴシンポジウム』のご案内
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以下本文
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■ 静電気力の話
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三菱電機(株)パワーデバイス製作所 園田信夫
静電気(ESA) によって吸着した異物（塵埃）は取れにくいことが知られている。
これは、静電気吸着力がクーロン力に依存するからで、重力沈降によって付着す
る形態とは異なるからである。クーロン力は F=k･(q1･q2)/r^2で与えられる。
k=1/(4πε0) 二つの電荷の積(q1･q2)が吸着の強さを表している。これを面積
1/(4πr^2) で割ったものがクローン力となる。
ウェーハ上異物がクーロン力で吸着した場合の力は
F=(-Dp^3･Qc^2)/(8πε0･r^2･Z^3)
基本は前式と同じである。仮に、１kV帯電したウェーハ上に１μｍの異物吸着し
たと仮定すると、式から、F=5.85x10^4kg/cm^2 が求められる。即ち、１μｍの
異物はcm^2当たり58トンの力で吸着している。逆に言えば、この異物が１μｍ^2
に吸着したとすると0.58g/μｍ^2となる。
かなり強力に吸着すると言えるし、除去しにくい。仮に異物（塵埃）もウェーハ
も静電気が０Ｖであれば異物は全く吸着しないし落下しても、軽く気流を与えれ
ば飛んでいく。ここにＥＳＡ対策の必要性がある。
異物が吸着したままウェーハを加工するとパターン欠陥の原因となる。また、拡
散・洗浄・蒸着工程などで汚染による不良の原因にもなる。ＥＳＤとは異なりウ
ェーハプロセスではＥＳＡが問題となる理由が分かる。
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■ 変種変量生産時代の局所クリーン化生産方式
最終回「ミニマルマニュファクチャリング」
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(独)産業技術総合研究所 原 史朗
「とてもいいデバイス技術を開発したので、生産に移そうとしたのですが、巨大
投資の厚い壁に阻まれてしまいました。まずは、クリーン化投資だけでもなんと
か安上がりにできないものでしょうか。」先日もこのような相談をある企業から
受けました。企業活動には、開発から生産へ至る間に、死の谷が横たわっていま
す。少なくとも半導体や液晶など、巨大投資を必要とするようになった集積回路
素子産業では、その死の谷の克服は最も重大な課題の一つとなっています。開発
した新技術は、大抵小さな装置で培われたものですし、往々にして一つの工程に
関わるものです。そこで、量産性を向上させるための製造装置開発と他の工程と
整合をとるための熟成が必要となります。それに、不良を出さないようにするた
めの高品質化の様々な工夫も求められます。これらには、膨大なリソースの投入
が必要となってしまいますので、結局、開発技術を生産に移行させるのを断念す
るということが、今では普通の風景になってしまっているのです。
しかし、ここで納得していては、先はありません。果たして量産性の向上と巨大
なクリーンルームは本当に必要とされるものでしょうか。量産性はそれ自体が目
的ではなく、製造コストを下げることがより本質的な目的のはずです。また、ク
リーンルームも、ウェーハや基板が清浄な状態を保っていることが真に求められ
ていることでしょう。必ずしも、メガ生産システムがユニークなソリューション
とは限らないのです。
◎この続きはこちら： http://www.puriken.org/minien-16.htm
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●『第１２回 ＳＯＰＴシンポジウム』のご案内
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今回は『最先端リソグラフィの要素技術とピューリフィケーション』をテーマと
して、各分野の最前線スペシャリストを講師陣にお迎えしています。
万障お繰り合わせの上、ご参加賜りますようご案内申し上げます。
開催日時：平成１９年１１月２２日(木)、１０：００−１７：００
開催場所：Ａ.Ｒ.Ｋビル（博多駅筑紫口より徒歩約５分）
定員： ６０名
参加費： 会員１０，０００円（非会員１３，０００円）
講演予定(敬称略)：
「これなら分かる半導体フロント・エンド・プロセス」
(株)産業タイムズ社 半導体産業新聞 松下晋司
「先端フォトマスクの現状と今後の課題」
ＨＯＹＡ(株)マスク事業部 先端プロジェクト統括部 木下 博
「リソグラフィ技術の現状と今後の展望」
(株)ニコン 精機カンパニー 開発本部 龜山雅臣
「最先端レジストの開発状況」
富士フイルム(株)エレクトロニクスマテリアルズ研究所 百田 淳
「リソグラフィプロセスにおけるケミカルフィルタの応用」
日本インテグリス(株)応用技術開発本部 大屋敷靖
◎最新情報はこちら： http://www.puriken.org/symp-12.htm
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