スタンスはどこまでを対象とするのかのPolicy設定にある。

製品のESDやESA対策が基本であるため、誘導帯電を起こさない周辺までを対象と

するのが良いのか、保険を掛けるように我武者羅に実施するのか。ここがPolicy

と思う。「拘るのか拘らないのか」の線引きが最初に求められることになる。

何も考えずに静電気対策するのであれば、莫大な費用と定期チェック・メンテナ

ンスに労力を費やさなければならない。名札やボールペンの対策が必要な筈がな

い。どこまでやるのか、やらないのか。そればっかり考えていたら頭どころか、

お腹も痛い。と思いつつも逆転・延長４連勝に元気をもらった。（文福茶釜）

ヘッドライン

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■ 環境にやさしい機能水を用いた洗浄技術 第３回「炭酸水の用途事例と効果」

●『クリーンルームにおける汚染原因・対策とクリーン度評価』--技術情報協会

●『第１１回 ＳＯＰＴ Ｑ＆Ａセミナー』のお知らせ

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以下本文

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■ 環境にやさしい機能水を用いた洗浄技術 第３回「炭酸水の用途事例と効果」

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　　　　　　　　　　　　　　　　　野村マイクロ・サイエンス(株)　柳　基典

　炭酸水は、半導体分野において約30年前から使用されており、用途も様々あり

ます。

　最大の用途は、超純水の帯電防止です。半導体やＦＰＤ分野において、洗浄工

程に用いられる超純水と呼ばれる“水”は、非常に電気を通し難く、抵抗率は、

18MΩ･cmもあり、水道水の抵抗率1×10^-2Ω･cmと比較すると非常に高いことが

わかります。洗浄対象となるシリコンウェーハや、ガラス基盤も電気を通しにく

いため、純水を用いてこれらを洗浄すると静電気が発生することがあります。静

電気の発生は、電気配線のショートや、微粒子の再付着など、歩留まり低下を引

き起こす原因となり、静電気対策は非常に重要となります。

　そこで、純水に導電性をもたせるために炭酸ガスを利用します。炭酸ガスは酸

素ガスや水素ガスといった気体と異なり、水中に溶解させるとイオン化します。

　イオン化するということは純水中の電気が通りやすくなる為、炭酸ガス添加量

を増やしイオン量を増やしていくと、抵抗率を下げることができます。

　実際の洗浄工程においては、帯電防止するために必要な炭酸水の抵抗率は、

1MΩ･cm以下で使用される例が多いようです。

　炭酸水のその他の用途として、アルミニウムの酸化防止に用いられます。アル

ミニウムは純水で溶解しますが、炭酸水はpH4〜5程度の弱酸なので、表面に酸化

アルミニウム被膜を生成させ溶解を防止します。

　炭酸水は、取り扱いが容易で、薬品を使わず、排水処理負荷が少ない、簡単で

効果的な環境にやさしい機能水といえます。

◎詳しくはウェブページで： http://www.puriken.org/nms-03.htm

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●『クリーンルームにおける汚染原因・対策とクリーン度評価』--技術情報協会

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開催日時：２００８年４月２５日（金）１０：００〜１６：３０

開催場所：ゆうぽうと（東京・五反田）

講師：　　三菱電機(株)パワーデバイス製作所 園田信夫氏

参加費：　４９，９８０円（昼食、税込）

主催：　　(株)技術情報協会

詳細：　　http://www.gijutu.co.jp/doc/s_804230.htm

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●『第１１回 ＳＯＰＴ Ｑ＆Ａセミナー』のお知らせ

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開催日時：２００８年６月６日(金)、９：５０−１７：００

開催場所：福岡朝日ビル（博多駅博多口から徒歩1分）

講演予定(敬称略)：

「キーノートスピーチ：金属不純物および結晶欠陥の影響のデバイスによる違い

　〜先端MOSデバイスとパワーデバイスの比較を中心として」

　　　　　　　　　　　　　　　三菱電機(株)パワーデバイス製作所　山本秀和

「これなら分かる半導体製造プロセス　--紙芝居で見るトランジスタ形成・多層

　配線--」　　　　　　　　　(株)産業タイムズ社　半導体産業新聞　松下晋司

「クリーンルームの環境制御技術動向　--汚染・静電気・CO2削減--」

　　　　　　　　　　　　　　　　(株)テクノ菱和　技術開発研究所　田村　一

「３次元ＬＳＩを含めた先端デバイスの動向」

　　　　　　　　　　　　　九州大学大学院システム情報科学研究院　浅野種正

「ＴＳＴによるレジストディスペンスの基礎と応用」

　　　　　　　　　　　　　　　日本インテグリス(株)商品企画本部　本間　仁

◎詳しくは次回のＳＯＰＴニュースでご案内致します。乞うご期待！