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環境にやさしい機能水を用いた洗浄技術

第8回「これからの機能水と課題」

野村マイクロ・サイエンス(株)
技術部NPグループ 柳 基典

 

1.はじめに

  第1回から第7回と、環境にやさしい機能水を用いた洗浄技術として、各種機能水の用途事例と効果および、機能水の製造方法について述べてきました。今回は、最終回であり、これからの機能水と課題について述べます。

 

2.機能水のメリット

  半導体やフラットパネルディスプレイ分野では、環境にやさしい洗浄技術として、機能水は導入されています。機能水を導入することによって、表-1に示すように、半導体やフラットパネルディスプレイ分野では、従来酸やアルカリ溶剤を使用していた洗浄を、機能水洗浄に切り替えることで、使用薬品を削減することを実現しました。これが機能水を使う最大のメリットです。機能水の中でも、オゾン水の用途は非常に多く、基盤表面の洗浄はもちろんのこと、最近では、第5回「オゾン水の用途事例と効果2」で述べたように、60ppm以上の高濃度オゾン水によるレジスト剥離が実用化されつつあるので、この技術が完成すれば、さらに機能水のメリットが際立ってくるものと思われます。

 

除去対象

従来洗浄技術

(半導体・FPD分野)

代替機能水技術

有機物除去

硫酸過酸化水素洗浄

(ピラニア洗浄、SPM洗浄)

オゾン水洗浄
(オゾン濃度20ppm)

レジスト除去

硫酸過酸化水素洗浄

(ピラニア洗浄、SPM洗浄)

NMP洗浄(アミン系溶剤洗浄)

高濃度オゾン水洗浄

(オゾン濃度>60ppm)

微粒子除去

アンモニア過酸化水素洗浄

(APM洗浄、SC1洗浄)

希薄アンモニア+水素水

+メガソニック洗浄

金属除去

塩酸過酸化水素洗浄

(HPM洗浄、SC2洗浄)

オゾン水洗浄

静電気除去

超純水洗浄

炭酸ガス水洗浄

表‐1 対象除去物資ごとの従来洗浄技術と機能水適用技術

 

3、これからの機能水と課題

  半導体やフラットパネルディスプレイ分野の機能水は、ガス溶解によるもので、ヘンリー則にそって溶存ガス濃度は決まっており、常温常圧下での利用がほとんどです。しかし、この利用条件の圧力や温度を調整することで溶存ガス濃度をさらにあげることも実現可能です。これは利用先の要求もありますが、高濃度な溶存ガスの機能水が今後実現できれば、現状にはなかった機能水の効果も期待でき、利用範囲も広がることで、これからも環境にやさしい機能水を用いた洗浄技術が役立ってゆくものと確信します。


 

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最終更新日 : 2008/01/09