PURIFICATION研究会＜SOPT＞　第６回 Ｑ＆Ａセミナーのご案内

<SOPT>会員各位に於かれましては、時下ますますのご清栄のこととお慶び申し上げます。
「2002年度　第６回 SOPT Q&Aセミナー」をご案内申し上げます。

本セミナーは、単に講演だけでなく、様々な観点からの質問にお答えができるようパネルディスカッションの時間を設けました。
なお、本セミナーにご関心の高い方であれば、非会員の方もご参加いただけます。どうぞ奮ってご参加下さいますよう、ご案内申し上げます。

《開催要項》
日時： 平成１４年６月２１日（金）　９：４５〜１８：００
場所： アスクビル（博多駅筑紫口より徒歩約５分）
福岡市博多区博多駅東１丁目１６−２５　Phone. 092-411-0026
参加費用： ５､０００円（テキスト/昼食を含みます。）
当日現金にて受付
申込締切： 平成１４年６月１０日

《主なプログラム》（順不同・敬称略）

『半導体プロセス入門』
九州工業大学 マイクロ化総合技術センター 浅野 種正

『薬液中の更なる微小粒子除去について―0.03um除去への挑戦―』

日本マイクロリス(株)商品技術開発本部 永渕 琢也

『次世代レーザー印字と発塵防止技術の解説』

（株）ワイ・イー・データ ＬＭシステム開発課 小西 靖宏

『ウェット洗浄装置の排気リサイクル技術』

野村マイクロ・サイエンス（株） セパレーション部 平野　誠

『シリコンウェーハ技術の最新動向』

三菱住友シリコン（株） 津屋 英樹

『パネルディスカッション』
講師全員

総合司会　三菱電機(株)　園田 信夫

SOPT運営委員長　九州大学大学院システム情報科学研究科　渡辺 征夫

《申込み・問合せ先》
申込み及び問合せはSOPT事務局までご連絡下さい。

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最終更新日 : 2008/01/09