「ULSIプロセス技術入門」

九州工業大学

マイクロ化総合技術センター

浅野 種正

　

ロジック、メモリー用途などのトランジスタの動作と構造、そしてそれらを製造するためのプロセス技術を基礎から解り易く解説する。

何故に現在のプロセス技術が使われるかの意義を理解していただくことを目的に話を進める。

素子の微細化にともなうフォトリソグラフィー、成膜、加工、材料の変遷について述べる。

TFT技術についても解説を加える。予備的な知識を要せずに理解できるよう努めるので、奮ってご聴講いただきたい。

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「クリーン化の基礎と最新技術」

（株）テクノ菱和

技術開発研究所

田村 一

　

クリーンルームで求められる性能は多岐に渡っており、その中で清浄度は最重要項目となっている。クリーンルームの清浄度は気流形式やフィルタの種類、室内の発生量などの要因で決まり、必要とされる清浄度に応じて各要因を制御すべく様々な技術が適用される。技術としては「発生防止技術」「除去技術」「拡散防止技術」「清浄化（清掃）技術」に分類することができるが、クリーンルームを施工する立場として、ここでは「発生防止技術」「除去技術」「拡散防止技術」について概説する。

「発生防止技術」

・     クリーンルーム内部の発生防止

・     作業者の管理

・     イオナイザーからの発塵防止

「除去技術」

・     導入外気の清浄化

・     内部循環空気の清浄化

「拡散防止技術」

・     循環系の分離（間仕切り等による物理的な隔離）

・     気流制御

またこれらの技術のなかから、近年主流となっている分子状汚染物質の湿式除去システムについても述べる。湿式除去システムでは、使用する純水の補給水量を低減しつつ除去効率の向上を図ることが重要な技術の一つであり、ここでは純水補給水量を極力少なくしたうえで、気液接触面積を大きくし、かつ対向流を有することでガス吸収効率の向上を図った対向流濡れ壁方式のほか、冷却コイルフィンを利用した湿式除去システムについても紹介する。

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「薬液用フィルタの基礎と最新技術」

日本マイクロリス（株）

応用技術開発部

甘利 陸浩

　

前半では薬液用フィルタの材質と構造、膜の製造方法、粒子除去メカニズムなどの基礎について説明する。また、フィルタを使用する上で注意が必要な耐薬品性、膜の濡れ性、親水化処理の方法や除粒子性能、清浄性、流量と圧力損失の考え方など、製品の品質管理を維持する上で重要な事柄について説明する。フィルタに対する理解を深め、フィルタ選定、効果的な利用の参考にして頂きたい。　

後半では、最近のフィルトレーションの動向として、半導体、或いはその関連産業で使用されている精密フィルタの微細化、清浄化の状況等について紹介する。また、更にフィルタによるピューリフィケーション技術として、粒子以外の不純物の除去技術についても簡単に紹介する。

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