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「炭酸エチレンを用いた環境にやさしいレジスト塗布カップの清浄化技術」 （株）ナムテック 事業推進部プロセスグループ 上田 光洋
半導体製造プロセスのうちフォトリソグラフィープロセスで使用されるコータ/ディベロッパを使用するにあたって定期的に装置内のレジスト塗布カップに付着したレジストを除去し、清浄化を行う必要がある。 従来、このレジスト除去を行う際に、アセトン、キシレン、メチルエチルケトンなどの有機溶媒を使用しているが、これらの薬品は毒性が高くまた引火点も低いため火災の危険性が高く、使い捨てのため廃棄物の量も多くなる。 そこで当社では、従来の薬品よりも毒性、火災の危険性が低く、さらにリサイクル可能で廃棄物量の低減が可能な、炭酸エチレンを用いた環境にやさしいレジスト塗布カップを清浄化する技術を開発し、炭酸エチレンを用いたレジスト塗布カップ洗浄装置を開発した。 本講演では炭酸エチレンを用いたレジスト塗布カップの清浄化技術について紹介する。 |
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