 |
|
|
|
「ウエハレビューSEMの技術と応用」 日本電子（株）半導体機器事業部 半導体機器本部 三平 智宏
半導体デバイス製造工程の検査や欠陥レビューにおいて、デザインルールの微細化により、光学技術を使用した装置から電子ビーム技術を使用した装置への置き換えが起こりました。特に光技術から電子ビーム技術への置き換えに成功した装置の一つとして、欠陥レビューSEMが挙げられます。SEMが高分解能、長焦点、傾斜観察などの独特な特徴を有していたことが、今日のように欠陥レビューSEMが広く普及した理由であります。 しかしながら、半導体デバイスを電子顕微鏡で見ることにおいて、電子ビーム特有の問題点がある事も事実です。その問題点とは、①画像取得時間が光学顕微鏡より長く、スループットが遅い。②材料により電子の帯電が起こり、安定した画像取得が出来ない。③白黒画像であるため、光学顕微鏡より情報量が少ない。などです。 我々SEMメーカーは、日々、これらの問題と向き合い、解決策を模索しております。これらSEMが抱える問題対策の最新の技術を紹介すると共に、欠陥レビューSEMの最新のアプリケーションを紹介します。 |
|
この Web サイトに関するご質問やご感想などについては、sopt@entegris.comまで電子メールでお送りください。
|