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＜第１２回SOPTシンポジウム プログラム＞
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時間 |
プログラム |
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（敬称略） |
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9:30-10:00 |
開場、受付 |
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10:00-10:10 |
開会の挨拶 |
SOPT委員長 |
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九州大学大学院システム情報科学研究院 |
浅野 種正 |
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10:10-11:30 |
「これなら分かる半導体フロント・エンド・プロセス」
‐‐紙芝居で見るトランジスタ構造とその製造プロセス・フロー‐‐ |
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半導体産業新聞 |
松下 晋司 |
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11:30-12:00 |
「先端フォトマスクの現状と今後の課題」 |
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ＨＯＹＡ（株）マスク事業部 先端プロジェクト統括部 |
木下 博 |
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12:00-13:00 |
昼食（ご準備しております） |
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13:00-14:00 |
「リソグラフィ技術の現状と今後の展望」 |
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（株）ニコン
精機カンパニー 開発本部 |
龜山 雅臣 |
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14:00-15:00 |
「最先端レジストの開発状況」 |
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富士フイルム（株）エレクトロニクスマテリアルズ研究所 |
百田 淳 |
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15:00-15:15 |
休憩 |
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15:15-16:15 |
「リソグラフィプロセスにおけるケミカルフィルタの応用」 |
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日本インテグリス（株）
応用技術開発本部 |
大屋敷 靖 |
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16:20-16:50 |
Ｑ＆Ａ（講師全員） |
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16:50-17:00 |
閉会の辞 |
SOPT事務局長 |
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日本インテグリス（株） |
二ノ宮
敏裕 |
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総合司会 |
SOPT副委員長 |
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三菱電機（株）パワーデバイス製作所 |
園田 信夫 |
（注）講師および講演タイトルは予告なく変更になる場合があります。予めご了承願います。
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