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「先端フォトマスクの現状と今後の課題」 ＨＯＹＡ（株）マスク事業部 先端プロジェクト統括部 木下 博
ウェハ上で形成するパターン寸法が、露光波長を下回ってから久しい。現在、先端デバイス分野では45nmSoC量産開始等の報告が成されているが、これらを実現する上でフォトマスクは重要な役割を担っており、これを支えるフォトマスクブランクス技術及びフォトマスク技術は益々重要となっている。 講演では、これらの現状と今後の課題について述べると同時にポストArFリソグラフィ技術であるNGL用マスク技術 についても簡単に触れたい。 |
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