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「リソグラフィプロセスにおけるケミカルフィルタの応用」 日本インテグリス（株） ガス製品アプリケーションデベロップメント 大屋敷 靖
半導体デバイスの微細化に重要な役割を果たしてきた化学増幅型レジストは、環境中のアンモニアに対して極めて敏感である。このため、化学増幅型レジストを取り扱う雰囲気中からは、アンモニアを排除することが求められる。 また、エキシマレーザー光源の導入は、極微量の揮発性不純物が、露光装置内に設置されているレンズを曇らせる、という新たな問題を誘発することとなった。 近年では、レチクル表面に発生するヘイズ（曇り）が、半導体の生産性に重大な影響を与えており、この問題も揮発性不純物が主要因であると考えられている。 以上の様に、先端リソグラフィプロセスにおいては、揮発性不純物の制御が極めて重要な課題となっている。ケミカルフィルタおよびその技術が、リソグラフィプロセスにおいてどの様に利用されているのか紹介する。更に、最近、特に深刻になっているレチクルヘイズ問題への解決策を提案する。 |
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