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「プロセスフィルタの清浄化技術」 日本マイクロリス（株） 応用技術部 甘利 睦浩
半導体および応用デバイスの更なるデザインルールの微細化、新材料・プロセスの導入、デバイス信頼性の向上、作業コストの削減、デバイス分析技術の高度化などにより、従来は顕在化していなかったコンタミネーションの問題がクローズアップされている。それに伴いプロセス薬液、材料、およびツールのクリーン化が求められている。なかでもプロセスフィルタはメンブレンを有しており最も表面積が大きなコンポーネントであるため、クリーン化に対する要求が高い。 本講演ではこれらのプロセスで使用されるフィルタにおける清浄度の定義および測定方法、クリーン化に対する当社の取り組み、管理について紹介する。 |
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